涂鍍層測厚儀精度的影響有哪些因素？
1．影響因素的有關(guān)說明
a基體金屬磁性質(zhì)磁性法測厚受基體金屬磁性變化的影響（在實際應(yīng)用中，低碳鋼磁性的變化可以認為是輕微的），為了避免熱處理和冷加工因素的影響，應(yīng)使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標準片對儀器進行校準；亦可用待涂覆試件進行校準。
b基體金屬電性質(zhì)基體金屬的電導(dǎo)率對測量有影響，而基體金屬的電導(dǎo)率與其材料成分及熱處理方法有關(guān)。使用與試件基體金屬具有相同性質(zhì)的標準片對儀器進行校準。
c基體金屬厚度每一種儀器都有一個基體金屬的臨界厚度。大于這個厚度，測量就不受基體金屬厚度的影響。本儀器的臨界厚度值見附表1。
d邊緣效應(yīng)本儀器對試件表面形狀的陡變敏感。因此在靠近試件邊緣或內(nèi)轉(zhuǎn)角處進行測量是不可靠的。
e曲率試件的曲率對測量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑的減少明顯地增大。因此，在彎曲試件的表面上測量是不可靠的。
f試件的變形測頭會使軟覆蓋層試件變形，因此在這些試件上測出可靠的數(shù)據(jù)。
g表面粗糙度基體金屬和覆蓋層的表面粗糙程度對測量有影響。粗糙程度增大，影響增大。粗糙表面會引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差，每次測量時，在不同位置上應(yīng)增加測量的次數(shù)，以克服這種偶然誤差。如果基體金屬粗糙，還必須在未涂覆的粗糙度相類似的基體金屬試件上取幾個位置校對儀器的零點；或用對基體金屬沒有腐蝕的溶液溶解除去覆蓋層后，再校對儀器的零點。
g磁場周圍各種電氣設(shè)備所產(chǎn)生的強磁場，會嚴重地干擾磁性法測厚工作。
h附著物質(zhì)本儀器對那些妨礙測頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感，因此，必須清除附著物質(zhì)，以保證儀器測頭和被測試件表面直接接觸。
i測頭壓力測頭置于試件上所施加的壓力大小會影響測量的讀數(shù)，因此，要保持壓力恒定。
j測頭的取向測頭的放置方式對測量有影響。在測量中，應(yīng)當使測頭與試樣表面保持垂直。

產(chǎn)品名稱：鍍層測厚儀
主要特點：
1.測量數(shù)據(jù)數(shù)字化存儲、圖形顯示，準確、直觀，測量精度高。
2.超過三十八種以上的可測量鍍層，以及所有導(dǎo)電性鍍層。絲狀線材和其它異形底材鍍層；
3.實時動態(tài)顯示電位變化曲線、可識別和測量合金層或其它中間層；
4.自動詳細分析多層鎳等類似鍍層的電位差值及厚度，評價其耐腐蝕性能；
5.首創(chuàng)的測量多層鎳無需三電極系統(tǒng)，不用x-y記錄儀，儀器更可靠，使用更方便；
6.能分辨不同成份的鍍層、評價鍍層的均勻性，進而判定鍍液的狀況、添加劑的性能；
7.監(jiān)視測量是否準確、詳細分析測量數(shù)據(jù)，選擇打印測量曲線和標準格式報告；
8.測量數(shù)據(jù)便于長期保存、隨時調(diào)用，可以利用其它軟件進行數(shù)據(jù)處理；
9.操作簡便、迅速，無需記憶測量種類代碼等。儀器可自行檢定；
10.軟件免費升級，測量鍍層種類不斷增加。根據(jù)用戶要求定制專用軟件，或增加特別硬件。

電鍍簡單的說就是將接受電鍍的部件浸于含有被沉積金屬化合物的水溶液中,以電流通過鍍液,使電鍍金屬析出并沉積在部件上。因為用途和材料不同，一般的電鍍有鍍鋅、鍍金、鍍銀、鍍鉻、鍍錫、鍍鎳和鍍銅鎳合金等，根據(jù)需要鍍層又分為一層、二層和多層電鍍等。從技術(shù)方便來話，電鍍的鍍層不僅僅要平整還要均勻，而對電鍍的鍍層厚度要求也要，比如電鍍金，鍍的太厚，電鍍廠家的成本就要增加，而鍍的薄了，又可能滿足不了客戶的需求，所以電鍍的膜厚測量也是電鍍技術(shù)能力和成本的一個重要指標。
專業(yè)提供電鍍鍍層膜厚儀Thick 800A，解決客戶鍍層膜厚測量的難題

利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性,從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態(tài)計量儀器。針對檢測樣本的不同種類，可在下列3種型中進行選擇。測量引線架、連接器等各類電子元器件的微型部件、超薄薄膜的型，能夠處理尺寸為600 mm×600 mm的大型印刷電路板的大型印刷電路板用型，適合對陶瓷芯片電極部分中，過去難以同時測量的Sn/Ni兩層進行高能測量的型。


兼顧易操作性與安全性
放大了開口，同時樣本室的門也可單手輕松開閉。從而提高了取出、放入檢測樣本的操作簡便性，并且該密封結(jié)構(gòu)也大大減少了X射線泄漏的風險，讓用戶放心使用。

檢測部位可見
通過設(shè)置大型觀察窗、修改部件布局，使得樣本室門在關(guān)閉狀態(tài)下亦可方便地觀察檢測部位。

清晰的樣本圖像
使用了分辨率比以往更高的樣本觀察攝像頭，采用全數(shù)碼變焦，從而消除位置偏差，可以清晰地觀察數(shù)十μm的微小樣本。
另外，亦采用LED作為樣本觀察燈，無需像以往的機型那樣對燈泡進行更換。
電鍍層膜厚儀Thick800A:

測量元素：原子序數(shù)13（Al）～92（U）
X射線源：管電壓：45 kV
FT：Mo FTh：W FTL：Mo
檢測器：Si半導(dǎo)體檢測器（SDD）（無需液氮）
型：Thick 800A
元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。
同時可以分析30種以上元素，五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9 。
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
任意多個可選擇的分析和識別模型。
相互的基體效應(yīng)校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg
產(chǎn)品優(yōu)勢：
采用非真空樣品腔；專業(yè)用于PCB鍍層厚度，金屬電鍍鍍層分析；可同時分析鍍層中的合金成分比列；多鍍層，1～5層；

很多金屬制品以及合金飾品都會進行電鍍，但是對于電鍍的厚度是需要用進行測量的，合格的產(chǎn)品才會被銷往市場上，目前國產(chǎn)鍍層測厚儀已經(jīng)發(fā)展的比較完善，現(xiàn)在國產(chǎn)鍍層測厚儀的種類也是非常多的，那么國產(chǎn)鍍層測厚儀使用時需要注意什么？
1，基體金屬特性：對于磁性方法，國產(chǎn)鍍層測厚儀的標準片應(yīng)該與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似，所以在使用的時候國產(chǎn)鍍層測厚儀的標準片應(yīng)該具備基體金屬特性這個方面；

2，基體金屬厚度：國產(chǎn)鍍層測厚儀在使用之前要檢查基體金屬厚度是否超過臨界厚度，如果沒有，進行校準后可以測量；
3，邊緣效應(yīng)：不應(yīng)在緊靠試件的突變處，使用國產(chǎn)鍍層測厚儀的時候不應(yīng)該在邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進行測量；
4，曲率：對于曲率的測量，不應(yīng)在試件的彎曲表面上測量，使用國產(chǎn)鍍層測厚儀的時候這一點是非常重要的，曲率的測量并不是簡單的彎曲表面測量；
5，讀數(shù)次數(shù)：通常國產(chǎn)鍍層測厚儀器的每次讀數(shù)并不完全相同，因此必須在每一測量面積內(nèi)取幾個讀數(shù)，覆蓋層厚度的局部差異，也要求國產(chǎn)鍍層測厚儀在任一給定的面積內(nèi)進行多次測量，表面粗造時更應(yīng)如此。
此外測量的時候還需要注意被測量物品的表面清潔度，測量前，應(yīng)清除表面上的任何附著物質(zhì)，如塵土、油脂及腐蝕產(chǎn)物等，保證國產(chǎn)鍍層測厚儀測量時周圍沒有任何的磁場干擾，因為磁場的干擾程度也會影響國產(chǎn)鍍層測厚儀的時候，此外還應(yīng)該注意國產(chǎn)都城測厚儀的測頭取向，測頭的放置方式對測量有影響，在測量時應(yīng)該與工件保持垂直。

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